HyperVap HV-300 擁有專利的半螺旋氣流機制，以達到最高的蒸發速度 可針對不同溶劑，設置四排獨立通道與計時器 藉由氣體吹掃裝置無接觸汙染問題 全自動、可編輯程式及重複操作 多樣化的噴嘴及管架，可滿足客戶各種樣品需求 吹針不易堵塞，且可任意更換吹針與試管架 氣體壓力及時間梯度的控制，可防止樣品分析時，發生噴濺與汙染的狀況 三側透明玻璃面板並搭配LED環景照射，容易目視樣品的濃縮體積 鋼化玻璃面板，自動關閉氣體及信號燈之功能(風扇、門及加熱器) 附水浴槽排水孔
擁有專利的半螺旋氣流機制，以達到最高的蒸發速度 可針對不同溶劑，設置四排獨立通道與計時器 藉由氣體吹掃裝置無接觸汙染問題 全自動、可編輯程式及重複操作 多樣化的噴嘴及管架，可滿足客戶各種樣品需求 吹針不易堵塞，且可任意更換吹針與試管架 氣體壓力及時間梯度的控制，可防止樣品分析時，發生噴濺與汙染的狀況 三側透明玻璃面板並搭配LED環景照射，容易目視樣品的濃縮體積 鋼化玻璃面板，自動關閉氣體及信號燈之功能(風扇、門及加熱器) 附水浴槽排水孔
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